<samp id="sqprm"><rp id="sqprm"></rp></samp>
  1. <tr id="sqprm"><label id="sqprm"></label></tr>
    <p id="sqprm"><label id="sqprm"><xmp id="sqprm"></xmp></label></p>
    <table id="sqprm"><ruby id="sqprm"></ruby></table>

    <pre id="sqprm"></pre>
    客戶咨詢熱線:
    18255163376
    首頁 > 產品中心 > 科晶最新設備產品 >
    • GSL-1800X-PGEP超聲霧化及靜電沉降1800℃納米制備管式爐--GSL-1800X-PGEP

      GSL-1800X-PGEP是一款多功能的合成系統,針對于合成各種納米結構氧化物。此款儀器有三個主要模塊組成:超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成。材料制作大概分為三個步驟:前驅體霧化、加熱和納米顆粒收集。此款系統是一款非常先進的合成系統,可控制器顆粒尺寸,形態,納米/微粒結構。

      訪問次數:1659    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • MSK-MR100DC軋輥轉速可調電動輥壓機--MSK-MR100DC

      MSK-MR100DC是一款可通過UL/CSA認證的電動輥壓機,此設備軋輥尺寸為:Φ100mm×100mm,采用的是可變速24VDC電器驅動,所以可在Ar氣環境中使用。本軋機特別適合對電池極片進行輥軋,常常用于鋰離子電池和鈉離子電池的制備。

      訪問次數:1296    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • OTF-1200X-V-H4氫爆爐--OTF-1200X-V-H4

      OTF-1200X-V-H4是一款UL/TUV標準的氫氣管式爐,主要設計用于對磁性材料進行氫爆處理或對材料在氫氣環境下進行熱處理。此款管式爐有5個溫區(分別采用獨立的的溫控系統控制),爐管材料為310不銹鋼,尺寸為Φ100mm*1500mm.設備中配有一3M的氫氣探測器,當探測到有氫氣泄露,將自動關閉氫氣進氣閥和出氣閥,以達到安全。

      訪問次數:1116    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • 坩堝(樣品臺)可移動型1200℃管式爐--OTF-1200X-S-HPCVD

      OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內移動(靠步進電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設備Z高工作溫度為1200℃。 設備特點:坩堝通過一步進電機控制爐管,按照設定程序移動,同時坩堝后端安裝一熱電偶(隨坩堝儀器移動),可實時監測樣品的溫度,意味著可通過移動坩堝的位置,在爐體中準確找到實驗所需要的溫度,使得實驗準確度更高,重復性更強。此款設備可用于多種實驗,比

      訪問次數:827    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • 雙刮刀微米級可調制膜器-寬度150mm--Se-KTQ-150D

      Se-KTQ-150D是一款雙刮刀的可調制膜器,由于有兩個刮刀所以涂覆效果會更加均勻。操作者可通過千分尺來調節刮刀與所涂覆平面之間的間隙,此工具特別適合實驗室制作電池電極,陶瓷膜前期的生瓷帶及各種薄膜。

      訪問次數:723    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • 2單靶直流磁控濺射儀--VTC-16-SM

      VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀,包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺,外形小巧,性價比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備,可選配各種金屬靶材和真空泵。

      訪問次數:1081    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • 6工位小型連續離子層反應吸附(SILAR)吸附系統--PTL-SC-6-LD

      PTL-SC-6是一款自動連續離子層吸收反應(SIAR)制膜系統,與手動操作相比,避免了實驗中的人為誤差,因為SIAR制膜法需多次對樣品進行重復提拉,所以手動很難控制其提拉的重復性。此款設備采用自動化控制,客戶可設置提拉速度、循環次數和時間。 PTL-SC-6擁有6個可程序設置的樣品臺,可設置浸漬速度、浸漬時間、提取速度,干燥時間以及加熱溫度(Z高溫度可達到80℃)。此款設備專門這對于

      訪問次數:815    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • 真空立式淬火爐--OTF-1200X-4-VTQ

      OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐,石英管直徑100mm,配有一個密封的液體容器用于樣品淬火,溫度從Z高1200度到冰水或油,可用于研究材料相轉變和微結構性能。

      訪問次數:1152    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • 1500℃真空熱壓爐--OTF-1500X-VHP4

      OTF-1500X-VHP4是一款真空熱壓機,可對材料在真空(或氣氛保護)及高溫的環境下進行加壓,如把粉末壓成塊狀,或將多層晶片壓合在一起(擴散實驗)。此款儀器Z高溫度可達到1500℃,在此溫度下可對樣品施加的壓力為5T。儀器爐體設計為開啟式,爐管采用美國進口的莫來石管,模具為石墨模具,加壓裝置為一20T的電動壓機。爐子Z高溫度可以達到1500℃,可設置30段升降溫程序。

      訪問次數:1169    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • 小型磁力滑動管式爐--OTF-1200X-S-DVD

      OTF-1200X-S-DVD是一款靠磁鐵推動坩堝移動的管式爐。其爐管直徑為50mm,Z高工作溫度為1200℃。本公司設計此款管式爐主要是為了在各種氣氛環境下用蒸發性沉積方法(DVD)來制取2維薄膜,或對材料進行快速熱處理。

      訪問次數:3433    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • 雙溫區立式高溫高壓爐--OTF-1200X-II-HPV

      OTF-1200X-II-HPV是一款雙溫區立式高溫高壓爐,爐管采用鎳基合金鋼管制作,具有較高的蠕變強度和抗氧化性。爐管可承受的Z高溫度為1100℃(在此溫度下可承受的壓力為3MPa).此款設備適合用水浴法制備材料,也特別適合在高壓氧環境下對樣品進行熱處理。法蘭上安裝有電磁閥,當爐管內壓力高于設定值時,電磁發自動打開排出氣體減小管內氣壓。

      訪問次數:567    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • 小型雙爐體滑動管式爐TCVD--OTF-1200X-S2-50SL

      OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐,爐管為Φ50×1400mm的石英管,并配有不銹鋼密封法蘭,儀器Z高溫度可以達到1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動,實現對原材料的蒸發/升華,及薄膜沉積。通過爐體的滑動可實現對樣品快速加熱,Z大升溫速率為100℃/min.同時可選擇電動滑軌、質量流量計(MFC)控制的供氣系統和等離子射頻電源來搭建TCVD系統。

      訪問次數:860    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    • KSL-1200X-AC-5S箱式氣氛爐(5面加熱)--KSL-1200X-AC-5S

      KSL-1200X-AC-5S是一款氣氛箱式爐,爐膛內有5個加熱面,使得爐膛內部的溫場更加均勻。此款設備專門針對材料在惰性氣氛保護的環境下進行熱處理,其Z高處理溫度為1200℃。采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料,并且表面涂有高溫氧化鋁涂層,可提高加熱效率增加溫度均勻性同時也極大地延長爐膛使用壽命。加熱元件采用Kanthal 1350℃級摻鉬Fe-Cr-Al電阻絲(為延長其使用壽命,表面涂有氧化鋯涂層

      訪問次數:811    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

    共 28 條記錄,當前 2 / 2 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉到第頁 
    黄片av
    <samp id="sqprm"><rp id="sqprm"></rp></samp>
    1. <tr id="sqprm"><label id="sqprm"></label></tr>
      <p id="sqprm"><label id="sqprm"><xmp id="sqprm"></xmp></label></p>
      <table id="sqprm"><ruby id="sqprm"></ruby></table>

      <pre id="sqprm"></pre>