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    小型蒸鍍儀能夠理想地再現結果

    發布時間:2021-08-20

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      小型蒸鍍儀生產用于SEM和TEM分析的均質導電金屬或碳涂層。配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發鍍膜機后,可在全自動系統中獲得可重復的結果,具有噴金儀、噴碳儀和蒸發儀三大功能。石英晶體測量、行星自轉、輝光放電和可更換屏蔽等多種選擇共同構成了這臺低真空鍍膜機。
      小型蒸鍍儀是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀。儀器雖小,功能齊全,但具有電壓電流反饋、樣品臺旋轉、樣品高度調節、電動擋板等功能。通過定期調整預濺射和薄膜沉積的功率,大多數金屬可以均勻地物理沉積。真空室由透明石英玻璃制成,以減少樣品污染??尚D樣品臺,獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。.配備直聯雙回轉機械泵(配備濾油器和防回油裝置),可使真空室真空度達到10-2torr。配備KF25波紋管和夾子,可以鍍碳。
      1、理想的再現結果
      運行自動化過程并輔助參數設置。
      2、小巧緊湊
      設計緊湊,占地面積小,節省實驗室空間。
      3、易于清潔
      配有可拆卸門、卷簾、內屏蔽、光源、舞臺。
      4、操作簡單
      直觀的觸摸屏和一鍵式操作。
      小型蒸鍍儀對于對氧氣較敏感的材料的氣相沉積,建議使用渦流分子泵。為了達到更高的無氧環境,真空室必須用高純惰性氣體清洗至少3次。
     
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