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    3靶等離子濺射儀的原理和應用特點

    發布時間:2021-07-20

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      3靶等離子濺射儀加熱溫度為500℃,控制面板為觸摸屏模式,可濺射三種靶材,放置直徑50mm樣品。通過旋轉樣品臺,可以將金靶、銀靶和銅靶三種材料依次涂覆在同一樣品上,可接真空泵、不銹鋼波紋管、kfd25快卸夾。
      3靶等離子濺射儀是緊湊型等離子薄膜濺射儀(直流普通型)??刂泼姘宀捎糜|摸屏方式?;宓臉O限尺寸為2",放置樣品的直徑為Ø50mm,加熱溫度高達500℃,可濺射金、銀、銅靶材,但不能輕金屬和碳,本機采用旋轉樣品臺,可在同一樣品上依次鍍三層薄膜,適用于實驗室鍍膜樣品的制備。采用PLC控制面板控制設備,操作方便,該機設備體積小,實驗室空間小,操作簡單,適用范圍廣,因此被廣泛應用于大專院校和科研院所的實驗室。
      1、PLC控制面板,4.3"觸摸屏,PID溫度控制方式。
      2、可控參數包括真空度、電流、目標位置和基板加熱溫度。
      3、可配真空泵、不銹鋼波紋管kfd25快卸夾。
      4、已通過CE認證。
      3靶等離子濺射儀是基于直流濺射原理的簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。該機的特點是在一個真空室中安裝了三個靶材,旋轉的樣品臺可以在同一個樣品上依次涂布三種材料。因此,適用于實驗室各種復合膜樣品的制備,以及非導電材料實驗電極的制備。
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