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    小型磁控射頻濺射鍍膜儀的理想性能值得你來體驗

    發布時間:2021-10-09

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      就像把石頭扔進平靜的湖水會濺出水一樣,用高速離子轟擊固體表面會使近表面的原子(或分子)從固體表面逃逸。這種現象稱為濺射現象。濺射意味著具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面以發射原子。早期的人們認為,這種現象源于目標的局部加熱。然而,人們發現濺射和蒸發有本質區別,人們逐漸認識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結果。小型磁控射頻濺射鍍膜儀磁控濺射利用磁場束縛電子的運動,提高電子的電離率。與傳統濺射相比,具有“低溫”和“高速”兩大特點。
      磁控射頻濺射鍍膜儀具有小型化、標準化的特點。磁控管靶有1英寸和2英寸兩種??蛻艨筛鶕婂兓宓某叽邕M行選擇;電源為150W直流電源,可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀設有通風接口,可提供保護氣體。儀器標配先進的渦輪分子泵,極限真空可達1.0e-5pa。
      小型磁控射頻濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。與同類設備相比,單靶磁控濺射鍍膜儀具有設計小型化、集成度高、體積小等優點,是實驗室制備材料薄膜的理想設備。該設備配備三個1英寸磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,該設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化膜。對于探索新型非導電薄膜,是廉價高效的實驗幫手。
      小型磁控射頻濺射鍍膜儀主要用于在單晶襯底上制備氧化膜,因此不需要太高的真空度。為了更好地排出真空室中的氧氣,建議用5%H2+95%N2對真空室進行清洗2-3次,可以有效降低真空室中的氧氣含量。請使用純度大于5N的AR進行等離子濺射。即使是5Nar也含有10-100ppm的氧氣和水。因此,建議將鋼瓶內的惰性氣體通過凈化系統后引入真空室。
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